無(wú)掩膜激光直寫(xiě)光刻機(jī)是一種利用激光直接在光刻膠上曝光制作所需圖案的設(shè)備，其適用于實(shí)驗(yàn)室和科研機(jī)構(gòu)，能夠進(jìn)行微納尺度的光刻加工。應(yīng)用：
電子/半導(dǎo)體器件
微/納電機(jī)系統(tǒng)
自旋電子學(xué)
傳感器
微流控
材料科學(xué)
生物實(shí)驗(yàn)室芯片
光子學(xué)
主要特點(diǎn)：
適用于大規(guī)模生產(chǎn)和工業(yè)級(jí)應(yīng)用
從納米級(jí)到十微米多種加工模式，實(shí)現(xiàn)更高的加工精度與速度
加工圖案預(yù)覽功能和對(duì)準(zhǔn)誤差補(bǔ)償
加工面自動(dòng)平整和自動(dòng)聚焦，保證加工一致性
全自動(dòng)化的可視控制系統(tǒng)與圖形化編程語(yǔ)言的應(yīng)用，顯著提升設(shè)備調(diào)控的靈活性與自主性
更高的對(duì)準(zhǔn)、拼接和套刻精度
長(zhǎng)時(shí)穩(wěn)定性控制系統(tǒng)，保證加工穩(wěn)定性余一致性
更大的加工區(qū)域，適用不同尺寸基材，提供自動(dòng)化樣品吸盤(pán)夾具
跨尺度納米級(jí)三維加工能力，魔技納米深入生物醫(yī)藥、維納光學(xué)、光電通信、新材料、防偽等多領(lǐng)域，結(jié)婚自研設(shè)備，摸索并形成面向多個(gè)行業(yè)應(yīng)用的成熟的加工工藝。
更新時(shí)間：2024-12-07
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